清洗单晶硅用的纯水可以用超纯水设备制取吗？

文章作者: 宏森环保

 　 众所周知，随着电子产品在人们日常生活的普遍应用，而半导体单晶硅又是设备不可缺少的一种部件，在单晶硅的制作中需要用到大量的工业纯水来进行清洗，如纯水的水质达不到一定的标准则将会对电子产品的使用造成一定的影响。

　　超纯水设备是众多工业用于纯水制造时会优秀选择的一种设备，那清洗单晶硅用的纯水可以用超纯水设备制取吗?

　　超纯水设备可采用反渗透技术、去离子技术、edi超纯水技术等纯水制取工艺，不同的水处理工艺制取的纯水电导率是不一样的，如需工业需要的水质达到18.2MΩ.cm，则需要进行水处理工艺相结合的方式进行制取。

　　工业超纯水制取工艺流程：原水预处理—反渗透水处理技术—超纯化处理—后级处理，采用这个水处理流程制取的纯水水质可达到18.2MΩ.cm。

　　超纯水设备是一种制取的纯水电阻率高、水质可达到杂质标准、也不会出现导电的情况，因此是可以用于清洗单晶硅用的纯水制取，不仅可用于半导体行业还可以应用于太阳能电池、实验室用的纯水、制药工业、电子设备显示器、电脑元件等工业。

　　如工业所需的水质无需达到18.2MΩ.cm，在18.2MΩ.cm以下的可以采用其他的水处理工艺流程，具体的水处理工艺流程可到宏森环保查询，工程师会根据要求的水质进行定制流程。