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EDI超纯水设备

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  • 电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。
    edi超纯水设备

    电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。...

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  • 电去离子系统的作用是精除盐。在使用RO渗透水脱除97~99%离子的前提下,EDI可直接将反渗透产水提纯到纯水、高纯水、超纯水的标准,而无需使用离子交换混床,其产水的电阻率最高可达18MΩ·cm。
    工业用edi去离子水设备

    电去离子系统的作用是精除盐。在使用RO渗透水脱除97~99%离子的前提下,EDI可直接将反渗透产水提纯到纯水、高纯水、超纯水的标准,而无需使用离子交换混床,其产水的电阻率最高可达18MΩ·cm。...

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  • 通过独特的设计,使进水通过填充有可再生树脂的淡水室,使水中杂质离子被树脂吸附,从而得到纯化水。而树脂在直流电场裂解水的作用下得到无污染的再生,因此保持活性。而释放的杂质离子将在直流电场的作用下,定向移动,通过离子选择膜进入浓水室被浓水带走。
    200吨二级反渗透+EDI设备

    通过独特的设计,使进水通过填充有可再生树脂的淡水室,使水中杂质离子被树脂吸附,从而得到纯化水。而树脂在直流电场裂解水的作用下得到无污染的再生,因此保持活性。而释放的杂质离子将在直流电场的作用下,定向移动,通过离子选择膜进入浓水室被浓水带走。...

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  • 抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。抛光混床又称一次性混床一般情况用在工艺末端,用来更进一步提高产水水质。为获得电子、医药或其他行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2 MΩ·cm)的理论纯水,在普通混床或EDI净水设备后,通常还装设抛光混床进行最终的精处理。
    80吨二级RO+EDI+抛光

    抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。抛光混床又称一次性混床一般情况用在工艺末端,用来更进一步提高产水水质。为获得电子、医药或其他行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2 MΩ·cm)的理论纯水,在普通混床或EDI净水设备后,通常还装设抛光混床进行最终的精处理。...

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  • 通过独特的设计,使进水通过填充有可再生树脂的淡水室,使水中杂质离子被树脂吸附,从而得到纯化水。而树脂在直流电场裂解水的作用下得到无污染的再生,因此保持活性。而释放的杂质离子将在直流电场的作用下,定向移动,通过离子选择膜进入浓水室被浓水带走。
    50吨EDI装置

    通过独特的设计,使进水通过填充有可再生树脂的淡水室,使水中杂质离子被树脂吸附,从而得到纯化水。而树脂在直流电场裂解水的作用下得到无污染的再生,因此保持活性。而释放的杂质离子将在直流电场的作用下,定向移动,通过离子选择膜进入浓水室被浓水带走。...

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  • 我司生产的超纯水设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
    新材料、电池行业超纯水设备

    我司生产的超纯水设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。...

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  • 电子超纯水设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。<br />
    电子超纯水设备

    电子超纯水设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
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  • 半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备,需要符合特定的用水水质标准,半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准18MΩ.cm以上
    半导体超纯水设备

    半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备,需要符合特定的用水水质标准,半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准18MΩ.cm以上...

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  • EDI是一种将离子交换技术(电渗析)、离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。它巧妙的将电渗析和离子交换技术相结合,利用两端电极高压使水中带电离子移动,并配合离子交换树脂及选择性树脂膜以加速离子移动去除,从而达到水纯化的目的。
    EDI除盐水设备

    EDI是一种将离子交换技术(电渗析)、离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。它巧妙的将电渗析和离子交换技术相结合,利用两端电极高压使水中带电离子移动,并配合离子交换树脂及选择性树脂膜以加速离子移动去除,从而达到水纯化的目的。...

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